L'ellipsomètre spectroscopique peut mesurer en continu dans une fenêtre spectrale allant de l'UV (210 nm) au proche infra-rouge (2000 nm). Il est équipé de deux détecteurs optiques différents et un spectromètre à double réseaux de diffraction pour couvrir cette fenêtre de mesure. La résolution spectrale peut être reglée par le réglage du spectromètre. L'instrument est entièrement piloté par ordinateur pour les différents types de mesure. L'épaisseur d'échantillon en couches minces à mesurer est entre une centaine de nanomètres à 2 micromètres environ. Une estimation de l'épaisseur de la couche mince à mesurer est recommandée mais pas obligatoire avant la mesure de son indice complexe. Nous pouvons réaliser cette mesure d'épaisseur par le profilomètre en salle blanche. L'interprétation du résultat de mesure se fait par un ajustement numérique de réponses ellipsométriques suivant des modèles physiques déterminés. Une conaissance préalable de l'indice complexe du substrat à semiconducteur est requise pour pouvoir obtenir une interprétation correcte de mesure de la couche mince déposée sur ce substrat. L'ellipsomètre est équipé un filtre coupe-UV jusqu'à 440 nm pour des mesures de couches minces organiques qui sont sensibles aux rayonnements UV.